美国SVT 脉冲激光沉积设备/PLD应用

● 多元素复合氧化物

● 高温超导材料

● 磁性材料、金属材料

● 低蒸汽压材料

● MEMS

基本系统

腔室及真空泵

12’’ 快速门，250l/s 分子泵，全量程规

沉积源

靶台，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋转，可Z方向移动

样品台

1’’(25mm)大小，可加热至800oC（1000oC可选），可水平旋转，可Z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控仪

自动化

自动化装置：

控制样品温度和旋转

靶台的位置控制

靶台旋转

气体控制

速率及厚度计算（利用QCM输出）

激光束扫描（可选）

激光束屏蔽控制

自动泵抽和充气

差分泵抽结构

RHEED分析（可选）

装载室压强监控（可选）

美国SVT 脉冲激光沉积设备/PLD主要特点
RF射频等离子源(氧，氮)
升级高真空
增加进样室
升级为Laser-MBE （L-MBE）系统
自动软件控制

提供更洁净的薄膜生长环境,控制解决方案