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产品型号：

M150A

产品介绍：

MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备M150A是一种新型氧化物成膜技术，具有节能安全、易操作等优点，可广泛应用于第四代半导体Ga2O3，直接宽带隙光电半导体材料 ZnO 等氧化物的薄膜沉积制造。
M150A 是青禾晶元开发的**一代 mist-CVD 氧化物薄膜沉积设备，致力于将半导体材料的制备技术推向新的时代。

产品特性：

技术参数：