上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 上海微电子
    参考报价:电议
    型号:SSB200小Mask系列曝光机
    产地:上海
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  • 详细介绍:


      产品特征

    高精度

    精密的光学系统和先进的测校等技术,保证设备高分辨率,支持新型显示屏的高精度曝光。

    低使用成本

    较低的运营和维护费用:采用标准6英寸掩模(或其加长版),2倍放大成像,显著降低掩模费用。

    可拼接曝光大尺寸屏

    采用精密的拼接策略,依靠优良的控制能力,可实现更大尺寸显示屏幕的拼接曝光。

    工艺适应性强

    支持多种基板尺寸,可选配红外等多种对准光源波长,适应各种曝光工艺工况。具有多达45片工位的掩模版库,每片独立版盒,对生产制造非常方便。