批次生产型高真空蒸发镀膜设备，用于在基板表面沉积各种金属薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\AI等) 满足 2-8inch Wafer 生产需求，能够**限度的压缩腔体尺寸，减少抽气时间，提高生产效率。