Sciyea二氧化硅抛光液主要由高纯度的氧化硅微粉所组成。可避免加工时易产生的刮伤现象，适用于工件的精抛，能达到工件要求的镜面效果，可替代同类进口产品。

• 基本信息
  

• 适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工；
  

• PH值稳定基本保持不变
  

• 含量15-45（w%）
  

• 广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光
  

 

• 特性
  

• 粒径均一（粒径分布窄，形貌成正球状）
  

• 抛光效率高（特殊配方，PH稳定不变）
  

• 高平坦度（表面质量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
  

• 循环次数多，使用寿命长
  

• 结晶速度慢，性能稳定

• 产品详情