用于去除SU-8这样的厚光组层

还可以用于各向同性材料蚀刻，例如Si、SiO2、SiOxNy、W、Mo等

不受离子腐蚀的纯化学腐蚀

集成RPS源（遥控/自由基等离子源）

等离子区域水冷

基板超低热负荷

腐蚀速率高（很大范围内不低于200μm/h）

基板尺寸可达460mm x 460mm