核心技术：

多站式（Multi-Stantion）设计，系统具有优异的膜厚均匀性；

模组化机台设计能够针对客户的需求做设计；

射频功率设计，使反应物能在低温的状态下达到高速率的沉积，进而提高产能；

先进性：

具有多站式（Multi-Stantion）设计，能够实现高重复性，使薄膜沉积的更加均匀；

优化RF功率，使薄膜应力及反射率达到**数值