随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入28纳米以及14nm等更先进等级，随着工艺流程的延长以及越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要超过200道清洗步骤， 晶圆清洗变得更加复杂、重要以及富有挑战性； 清洗设备以及工艺也必须推陈出新，使用新的户物理及化学原理，在满足使用者的工艺需求条件下，也兼顾降低晶圆清洗成本和兼顾环境保护；

• 减少材料损伤（material loss）； 

• 孔洞的清洗能力；

• 防止晶片结构损伤（pattern damage）；

• 金属、材料及微粒子的交叉污染 ；

• 晶圆可靠性改善；

单片湿法设备的工艺应用

• 去胶及去胶后清洗

• 炉管及长膜前清洗

• 氧化层/氮化硅蚀刻

• 铜/钛金属蚀刻

• 聚合物去除

• 擦片清洗

• 化学机械研磨后清洗

单片清洗的亮点 

• 可以提供完整的湿法工艺解决方案，及前瞻的技术规划。

• 设备及工艺已经通过国际一线大厂的验证。

• 设备平台及腔体设计种类多，可滿足客戶不同條件。

• 多层式结构腔体设计，化学品回收率**可以达到95%以上。

• 自动清洗功能（腔体、排风口、 化学品喷嘴及手臂），可避免交叉污染及减少微粒子。 

• 先进的自动工艺控制功能（片/批次），可以改善产品的均匀性。

• 可靠的视觉辨识功能，能立即侦测设备异常，预防产品异常。

• IPA 干燥功能，可以减少微粒子及水痕。

ULTRON S2XX/S3XX

设备平台: ULTRON S-Series

晶圆尺寸: 200mm/300mm， 

相关技术: 全自动旋转式湿法清洗适用制程: 晶体管, 连接体, 图形化, 先进内存, 封装