ASML Holding NV (ASML) 于2006年末推出了其**的 TWINSCAN 系统，这是一种先进的 193 纳米 (nm) 曝光系统，具有成像、覆盖和吞吐量改进的特点。TWINSCAN XT:1450 的目标是大批量制造，将干燥 ArF 扩展到亚 60 nm。客户还可以使用它来支持使用双图案技术开发 32 纳米节点工艺。

XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值，在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增强的镜头像差控制和增强的叠加性能，使 XT:1450 能够将干 ArF 的极限扩展到 57 nm 的指定分辨率。