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ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
报价:面议
品牌: | 佳鼎半导体 |
产地: | 山东 |
关注度: | 103 |
型号: | ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi |
产品介绍
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。
XT:1900Gi采用蔡司星石1900i浸没镜头。这是现有的大型ArF镜头,在1.35NA时,它推动了水基ArF浸入式平版印刷达到极限。结合ASML的Ultra-k1产品组合,它提供了行业*低的可用k1值,它可以实现40nm及以下的半间距分辨率。
XT:1900Gi采用新的测量和曝光周期,它为浸入式光刻设定了一个新的基准,每小时生产131个晶片。
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工商信息
企业名称
青岛佳鼎半导体
企业类型
信用代码
91370214583698120T
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围