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TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备
报价：面议
| 品牌： | 碳方程 |
| 产地： | 山西 |
| 关注度： | 24 |
| 型号： | TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备 |
产品介绍
TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是***的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。
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碳方程半导体设备制造（山西）有限公司为您提供碳方程TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备，TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备产地为山西，属于半导体行业专用仪器，除了TFC-6650C化学气相沉积（MPCVD）设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供TFC-6500B化学气相沉积（MPCVD）设备、金刚石热沉片、TFC-10800C化学气相沉积（MPCVD）设备。
工商信息
企业名称
碳方程半导体设备制造（山西）有限公司
企业类型
信用代码
91140106MA0M30820N
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
