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反应离子刻蚀PECVD系统
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品牌: 创世杰
产地: 北京
关注度: 401
型号: 反应离子刻蚀PECVD系统
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产品介绍

Oracle III 多腔室系统

由中央真空传输机构(CVT)、真空盒升降机和至多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接,既能够以生产模式运行,也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统,既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸),也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
由于Oracle III至多可容纳四个独立的工艺室,其可以有多种不同的工艺组合,其中包括RIE/ICP(反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁,工艺运行可靠且没有大气污染。


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北京创世杰科技发展有限公司为您提供创世杰反应离子刻蚀PECVD系统,反应离子刻蚀PECVD系统产地为北京,属于半导体行业专用仪器,除了反应离子刻蚀PECVD系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供真空共晶回流焊炉、微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD、化学气相沉积PECVD系统。
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北京创世杰科技发展有限公司

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9111010680221692XQ

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