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化学气相沉积PECVD系统
报价:面议
品牌: | 创世杰 |
产地: | 北京 |
关注度: | 566 |
型号: | 化学气相沉积PECVD系统 |
产品介绍
Orion III等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)
Orion III等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统可适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片(2”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产提供先进的沉积能力。
Orion III系统用于非发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅。工艺气体:<20%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧和氮。
该设备可选配一个ICP或三极管(Triode)源。三极管使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。
通过打开室盖,直接将基片装入工艺室。
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北京创世杰科技发展有限公司为您提供创世杰化学气相沉积PECVD系统,化学气相沉积PECVD系统产地为北京,属于半导体行业专用仪器,除了化学气相沉积PECVD系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供真空共晶回流焊炉、微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD、超大行程引线键合机。
工商信息
企业名称
北京创世杰科技发展有限公司
企业类型
信用代码
9111010680221692XQ
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围