技术参数：

　　1.高通量Zeiss光学系统

　　2.波长范围：190-900nm，可变狭缝0.2、0.5、0.8、1.2nm

　　3.全自动6灯转换

　　4.横向加热石墨炉技术，加热速率可达3000度/秒

　　5.三磁场塞曼扣背景，磁场方向可调，磁场强度0-1T可调，同时可选择2-磁场模式

　　6.可固体进样

　　主要特点：

　　1.紧凑型设计，石墨炉电源内置

　　2.采用横向加热石墨炉技术

　　3.液体和固体石墨炉分析系统

　　4.配置3-磁场塞曼背景校正

　　5.氢化物-石墨炉直接联用

　　6.ZEEnit650可同时配置三磁场塞曼和氘空心阴极灯背景校正技术