中试阶段的升华仪/真空纯化，设备整体呈“L”型布置，适用于OLED光电显示材料、半导体材料（前驱体、光刻胶等）、钙钛矿材料以及医药材料等领域。

设备参数：

?石英管外径mm：200（可定制）

?温区：6～8（可定制）

?泵组：1）旋片泵+扩散泵

                 2）旋片泵+分子泵

                 3）干泵+分子泵

                 4）旋片泵+冷泵

?单次投料量g：1000~4200

?极限真空 pa：<6.0E-05（室温、空载、 120min内）

?炉腔真空保压pa：30min<5.0E-01、 720min<1.0E+01（室温、空载）

?加热温度 ℃：室温～600连续可调（可定制）

?温度波动 ℃：± 1

?温度超调℃：<3(温度大于200℃)

?*-大功耗 KW：<12

?总重量kg：1300

产品特点：

?真空系统按超高真空标准设计，漏率小。

?温控采用模糊PID+功率调节器，控制精准。

?设备智能信息化高，控制源程序自主(可定制) ，实现一键启动，可对接MES系统。提供车间智慧大屏看板。

?投料端无需冷却水冷却，减少能耗，专-利的挡板结构安全可靠的替代液氮冷阱。

?产品设计经验丰富，设计过各种泵组的配置。