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脉冲激光沉积设备—PLD-400
报价：面议
| 品牌： | 致真精密 |
| 产地： | 安徽 |
| 关注度： | 364 |
| 型号： | 脉冲激光沉积设备—PLD-400 |
产品介绍
脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。
性能参数
晶圆尺寸 | 2inch |
极限真空 | 5×10-9mbar |
温控 | RT-1200℃ |
| 靶台数量 | 6个1inch 靶材或3个2inch靶材 靶台公自转设计（可单独旋转） |
| 靶材更换 | 原位更换靶材 |
| 激光源 | 准分子激光器 |
| 常用材料 | BFO、SRO、VO2等 |
| 占地面积 | 3m L*2m W*2m H |
| 可选 | 自动传输、反应沉积、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等 |
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合肥致真精密设备有限公司为您提供致真精密脉冲激光沉积设备—PLD-400，脉冲激光沉积设备—PLD-400产地为安徽，属于半导体行业专用仪器，除了脉冲激光沉积设备—PLD-400的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供晶圆真空传输平台—VTM、蒸发源、科研级磁控溅射设备—MS-700。
工商信息
企业名称
合肥致真精密设备有限公司
企业类型
信用代码
91340100MA8LHUWE33
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
