应用领域

应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光，也可用来研磨抛光特殊材料 ，诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光。

白色阻尼布抛光垫：
具有**的相互连接的微孔结构，在进行粗抛光处理时能具备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛，以获得没有缺陷的晶片表面。

白色抛光皮的优势：
1）去除率高，质量稳定，耐磨性好；
2）具有中柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率；
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便。
使用说明：
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。
黑色阻尼布抛光垫
具有**的相互连接的微孔结构，在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性/耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，适用于晶片、蓝宝石、石英、玻璃、金属、陶瓷的高平坦化超精密抛光，抛光后精度可达0.0002，可至**的镜面效果。

黑色抛光皮的优势：
1）质量稳定，耐磨性好；
2）具有良好的柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率；
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便。
使用说明：
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。