深圳中机新材料有限公司
  • 深圳中机
    参考报价:电议
    型号:高锰酸钾氧化铝粗抛液
    产地:广东
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  • 详细介绍:


    主要由高纯度氧化铝组成,特别适用于高硬度物质和半导体材料的抛光,例如蓝宝石、硒化锌。具有良好的分散性和稳定性,去除率高、表面粗糙度小,以及对工件无损伤,易清洗等优点。


    主要特征

    高去除率,利用氧化铝本身高硬度,可做大粒径来达到较大移除量;
    粒度范围广,目前*小可做到30nm,**可做到几十甚至上百微米;
    可选择性多,可根据客户需求,制成水性,油性,蜡状,膏状等;
    具备良好的分散悬浮性、质量稳定、抛光寿命长;
    优质的抛光表面、无桔皮、麻点、划伤等缺陷;
    易清洗,不易板结。

    粒度分布和应用场景


    型号

    外观

    PH值

    固含量 %

    粒径 μm

    包装(㎏)

    MMP037

    乳白色液体

    碱性

    20

    0.2-0.5

    5/25

    MMP038

    乳白色液体

    碱性

    20-30

    0.1-0.2

    5/25

    MMP099

    乳白色液体

    碱性

    20

    <0.1

    5/25

    MMP103

    乳白色液体

    酸性

    10-30

    >1

    5/25

    MMP-S300

    乳白色液体

    10-20

    2-3

    5/25


    应用领域
    金属类材料,如不锈钢,铝件,锌合金;金属类材料,如不锈钢,铝件,锌合金;
    蓝宝石光学片,LED蓝宝石衬底,表镜片,晶体,宝石;
    光学镜片,光学玻璃,石英;
    光纤以及光伏企业;
    陶瓷,陶瓷基板,氧化铝陶瓷,氧化锆陶瓷,氮化铝基板,手机陶瓷盖板,穿戴陶瓷。



    包装规格 

    5KG/25KG,桶装(可根据客户需求定制)。

    储存方式

    存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射。

    该产品采用进口聚晶氧化铝微粉为主要原料,氧化铝粒径分布均
    匀,悬浮体系稳定,分散性好,不易板结。该产品的液相添加了高锰
    酸钾,利用高锰酸钾的强氧化性,对SiC片表面进行腐蚀,再通过氧
    化铝的机械作用来达到对SiC片的高去除率抛光。
    该产品使用简便,抛光件表面易清洗,在抛光机以及抛光垫上无沉
    积,配合无纺布粗抛垫使用可以达到极低的表面粗糙度及极低的表
    面损伤。