|  应用领域
       应用于碳化硅（SiC）、蓝宝石（Sapphire）、氮化镓（GaN）、陶瓷、MEMS、光学产品等材料的加工。

|  适用范围
✦ 陶瓷盘尺寸：Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm（可兼容）
✦ 产品尺寸：2、4、6寸（可兼容） 
✦ 研磨效率：约2um～3um/min（具体视工艺而定）
✦ 清洗效率：约2min/盘（具体视工艺而定）
✦ 清洗液温度：40℃（具体视工艺而定）