氮化硅压力炉设备用途:

氨化硅基板，氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点:

1.温度:max2400摄氏度

2.温度分布精度:R10

3.发热体:石墨

4.压力:1Mpa

5.气氛:N2环境，氧含量小于100ppm