适用于制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、需在苛刻环境下工作的传感器、探测器等。

适用于制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、需在苛刻环境下工作的传感器、探测器等。

适用于制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、需在苛刻环境下工作的传感器、探测器等。