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产地：日本 在线咨询
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产品名称：离子束刻蚀系统
品牌：Elionix
型号：EIS-200
关键词标签：离子束蚀刻，干法蚀刻，离子束轰击，离子束减薄
简短描述：（<40字）：利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
一、简介
EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、镀膜等。
EIS-200原理：
利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
EIS-200具有以下优点：
?方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少
?分辨率高
?不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻
?可控制蚀刻Taper角
?可以设定多样的实验条件
二、主要功能
l主要应用
纳米级图案刻蚀
高深宽比蚀刻
表面清洁
离子减薄
l技术能力
离子枪 | ECR型离子枪 |
离子化气体 | Ar、Xe等、惰性离子气体 |
N2、O2、CF4等、活性离子气体 | |
加速电压 | 100V～3000V 连续可变（高加速电压可选) (输出电流20mA MAX) |
离子束流密度 | Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時） |
O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時） | |
离子束有效直径 | Φ20mm（FWHM35mm) |
离子束稳定度 | ±3％/2H |
大样品尺寸 | Φ4英寸 |
三、应用
纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等
?SiO2 on Si substrate
?Diamond Substrate（金刚石）
?Quartz (Mask)
?Oriented PET film
