拉普拉斯新能源科技股份有限公司
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    参考报价:电议
    型号:拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
    产地:广东
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  • 详细介绍:


    设备的应用及特点


    应用

    本设备适合156-210mm硅片生产,相比常规竖直插片具有更高的镀膜均匀性,能帮助客户提升高效太阳能电池的效率、集中性、和EL良率。本设备具有行业内**产能,能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。



    拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430