拉普拉斯 |
参考报价:电议 型号:拉普拉斯低压水平磷扩散设备 LRP430
产地:广东 在线咨询
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设备的应用及特点:
应用:
本设备适合156-210mm硅片生产,无传统技术的搭片及其带来的方阻均匀性问题,更高的方阻均匀性为客户带来更窄的效率分布和更高的电性能良率。更高的方阻均匀性为下一代高方阻工艺提供了可能,能帮助客户进一步提升转换效率和竞争力。本设备具有行业内**产能,能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
产品特点:
1. 水平放片,管内空间利用率高,能耗低;
2. 硅片方向与气流方向一致,硅片对气流阻挡小,片内/片间均匀性更优;
3. 自重挤压,减少硅片间间隙,绕扩/绕镀可控;
4. 水平放片,更适合超大,超薄硅片生产;
5. 电池技术适用性和通用性高,可用于PERC,TOPCon等各种电池结构;
6. 整机模块化设计,兼容性好,可相互升级转换;