仪器简介：

此产品广泛应用于：半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。

PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲前沿的科学机构、公司。

PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的**技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD**。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。

技术参数：

技术指标

SUNALE™ R系列技术特点

基本特点：

晶片尺寸 2-6”， 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)

工艺温度 Up to 500°C

反应室体积 小型、中型、大型

反应室材料 316 SS， Ti， Ni， Al (quartz)

前驱体 2-6 气体 / 气体 / 固体

基片装载 气体升降

尺寸：

尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’， 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)

重量 200 kg

工况：

电源 100-240 V， 50/60 Hz， 1- or 3-phase， 3.7 kW Vac

真空泵 30-80 m3/h

载气 99.999 % N2 / Ar， min. 2 slm

压缩空气 4-5.5 bar 过压

冷却水 反应器不需要

排气 为真空泵及源橱柜配备

样品装载选项：

Picoloader™手动样品装载系统，带一个预真空室和闸阀

主要特点：

特点

多功能的反应器设计

全套的服务