• 可选配HMDS
• 涂胶
• 前烘
创新的双层旋涂方法
精确的涂胶厚度和均一性控制
腔体自动清洗功能
先进的热/冷盘模块
技术先进,使用便捷
兼容8英寸和12英寸晶片
可配*多四个涂胶腔体,并配置腔体自清洗功能
每个涂胶腔体可配有两种光刻胶喷嘴
去边(EBR)喷嘴, 预湿喷嘴, 正背面清洗喷嘴
2到8个热盘,2到6个冷却盘,1到2个HMDS模块