主要优势

脉冲局部电镀技术

适用于超薄种子层

高产能

独立模块设计

低耗材成本COC和运行成本COO

特性和规格

设备应用于300毫米晶圆

*多可配至3个Load Port

*多可配至4个电镀腔体配备脉冲局部电镀功能

*多可配至4 个清洗腔体

*多可配至8个退火腔体

电镀均一性:
　　　　　WIWNU  < 1.5%
　　　　　WTWNU < 1.5%