北京中兴百瑞技术有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:英国
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  • 详细介绍:


    Cressington 108Auto 全自动离子溅射仪是用于扫描电镜的

    ***高质量的镀膜仪系统

    ●自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和**的导电喷镀效果。

    ●通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。

    ●操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换

    气控制。

    ●在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重

    现的喷镀效果。

    ●可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪(选件)(分辨率优于 0.1nm-99.9nm +999.9nm)

    ●数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和**的

    镀膜效果。

    可使用多种金属靶材:Au Au/Pd,Pt,Pt/Pd,靶材更换快速方便。

    技术规格:

    样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构

    样品台:可放置 12 个标准 SEM 样品座,高度可在 60mm 内调节

    溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,*

    180A,配有过流保护

    溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调,**电流 40mA,程序化数字控制

    溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩

    模拟计量:真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A

    厚度监测器: MTM-10 高精度厚度监测器(选配)

    控制方式:自动气体换气和泄气功能,自动处理排序,带有“暂停”控制的数字定时器

    0300s),自动放气

    电源:200-240 VAC, 50/60Hz

    功率:1000VA (包括镀碳机和真空系统)

    Cressington 108C Auto 全自动镀碳仪是用于扫描电镜的

    ***的镀碳仪系统

    ●独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚大约 20nm 左右进行多次蒸发,无须切

    削或调整碳棒形状。

    108C Auto 中使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。该镀膜系统

    结构紧凑,容易操作,抽真空周期短。选件 MTM-10 高分辨膜厚监控仪可以精确地得到

    所需的碳膜厚度。

    ●使用新型的蒸发装置:电流和电压通过磁控头的传感线监控,蒸发源作为反馈回路中

    的一部分被控制。该蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低,

    碳棒具有优异的重新蒸镀特性。蒸发源可以通过脉冲或连续的方式操作。

    ●自动模式下,蒸发源按程序设定的电压和时间进行喷镀。手动模式下,独特的设计允

    许以脉冲或连续的方式操作,并通过旋钮控制输出电压。

    可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪(选件)(分辨率优于 0.1nm-99.9nm +999.9nm)

    技术规格:

    样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构

    溅镀材料:Bradley 型高纯度碳棒 (6.15mm, [1/4"])

    溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,*

    180A,配有过流保护

    样品台:可放置 12 个标准 SEM 样品座,高度可在 60mm 内调节

    模拟计量:真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A

    厚度监测器: MTM-10 高精度厚度监测器(选配)

    控制方式:自动蒸镀控制,使用可编程电压控制和计时;可选择手动操作或自动控制

    数字计时 (0 30 ),数字电压设定 (0.1 to 6.0V)

    电源:200-240 VAC, 50/60Hz

    功率:1000VA (包括镀碳机和真空系统)

    SPI Supplies Vacu Prep II真空蒸发溅射仪

    SPI Supplies Vacu Prep II 是一款快速、清洁、简便的自动台式高真空蒸发溅射仪。它利用固态电子控制泵送、蒸发和排气序列。安全可靠,易于维护。SPI Supplies Vacu Prep II可用于常规碳镀层或各种金属材料的蒸发。所有系统操作通过互动触屏幕控制,易于掌握。用户也可以通过屏幕监视和管理系统的运行,也可选择手动或自动工作模式,完成工作。

    SPI Supplies Vacu Prep II通过快速的泵送运动,能够快速实现10-7 Torr范围的极限真空。该设备的另一特色是拥有大型的工作平台,可容纳多个引线、夹具等。762.5px × 1142.5px的工作室可以为蒸发和溅射工作提供充足的空间。钟罩可以轻松上升或下降。

    涡轮分子泵是该系统的核心部件。复合涡轮分子泵操作的速度为60/秒,在短时间内可实现良好的真空水平。典型的泵送周期(10-5)可实现在10分钟内为一个标准TEM网格的镀碳。可通过液氮阀门调整泵送速率以达到更高的真空水平。

    SPI Supplies Vacu Prep II配有安全联锁装置,可保障操作者的安全,以及防止设备损坏。前面板上配有紧急关闭开关。

    典型的应用:

    l电子显微镜样品制备;

    l关于透射电镜和X射线分析的高真空碳镀层工作;

    l金属化合物电阻蒸发;

    l制备碳支持膜;

    l碳铂

    l旋转阴影

    l孔径清洗

    l石棉分析

    l故障分析

    技术参数:

    产品编号

    ZB-

    产品名称

    SPI Supplies Vacu Prep II真空蒸发溅射仪

    尺寸大小

    78.7 × 71.1 × 76.2 cm

    重量

    250磅(113.4kg

    空气(汽门系统)

    80

    可选的排气(5-10磅)

    电力

    110V220V

    机械泵需要回涡轮泵

    泵必须能够85/分钟