仪器简介：

Torr international， Inc(拓尔国际)Magsput系列磁控溅射系统

Magsput磁控溅射系统是新一代磁控溅射系统，该款产品以其实用性强、定制和扩展功能齐全而著称于世，广泛应用于全球许多R&D实验室、大学研究、中试以及小规模生产中。紧凑型设计使得该款产品成为超净室的理想选择。该系统提供多种选件，如溅射枪的数量和尺寸，电源功率大小等。真空腔有多个备用端口，可用来增加磁控枪、热阻源或电子束蒸发源。典型应用包括纳米技术、光学仪器、显微镜、分子束外延、功能薄膜和装饰性涂层等。

技术参数：

磁控溅射系统标准配置

真空腔： 不锈钢箱型真空腔，前开门上安装一个4英寸观察窗

真空系统： 涡轮分子泵组，配前级旋片泵和各种阀门接头等，可获得10-7Torr的真空。

真空读出电路： 数字式全量程真空计

基片台：直径8”或更小尺寸基片台

磁控源： 单个或多个2英寸磁控枪

电源功率： 300W高压固态变功率电源

厚度监控器：石英晶体厚度监视器和速率控制器

尺寸：24” x 24” x 5’

重量： 500磅左右

质保：一年

货期：8周

选配：

真空腔：增加观察窗个数或增大观察窗尺寸

真空泵组：300-3000l/sec涡轮分子泵或冷凝泵，干泵或旋片泵

真空计：冷阴极或热阴极离子规

磁控源：磁控枪的尺寸和数量

电源功率：DC和RF电源，可选1000W甚至更大

主要特点：

Torr international， Inc(拓尔国际)Magsput系列磁控溅射系统

Magsput磁控溅射系统是新一代磁控溅射系统，该款产品以其实用性强、定制和扩展功能齐全而著称于世，广泛应用于全球许多R&D实验室、大学研究、中试以及小规模生产中。紧凑型设计使得该款产品成为超净室的理想选择。该系统提供多种选件，如溅射枪的数量和尺寸，电源功率大小等。真空腔有多个备用端口，可用来增加磁控枪、热阻源或电子束蒸发源。典型应用包括纳米技术、光学仪器、显微镜、分子束外延、功能薄膜和装饰性涂层等。

优良的薄膜质量

该系统可以沉积多种材料的均匀的附着力强的薄膜，可沿多轴旋转的基片台便于在各种尺寸或形状的样品上形成均匀连续的薄膜。

实用性强，用途广泛

可沉积Al，C，Cr，Au，Teflon，SiO2，Ta，W和Ti等各种材料。真空腔有多个备用端口方便将来的升级，比如增加电子束蒸发源和热蒸发源等。

维护成本低

整套系统结构设计合理，真空腔和基片台等组件均采用长寿命真空元件。涡轮分子泵几乎是零维护成本，而前级机械泵常规维护仅需要更换机油即可。

提供多种选项

可以根据用户的要求和预算进行定制：包括真空腔尺寸、基片台尺寸、基片台的加热和冷却（水冷或多种冷却剂冷却）、基片台的旋转和倾斜、涡轮分子泵或低温泵等选项，可选择延长质保期等。