北京飞斯科科技有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:美国
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  • 详细介绍:


    典型应用-中子散射

    SHI-4TSHI-950T系列4K制冷机可特殊设计应用于中子散射和衍射实验。这些系统带有铝(或者钒)中子区,将中子区壁厚减小,可**程度地减少中子束到达实验样品前的吸收,从而增大中子束穿过率。

    SHI-4T-800中子散射用制冷机 SHI-950T中子散射用制冷机

    选项包括:

    样品在真空或交换氦气中

    特殊的安装法兰匹配Goniometers

    长尾部可到达深中子阱

    大样品区使得样品到铝壁间距离尽可能**

    冷指处有4K屏蔽层

    紧凑型设计满足空间受限场合

    可更换尾部

    高温选配至800K

    特殊定制的SHI-950T,用于中子散射,温度变化范围从4K到800K,请查看图纸: