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产地：日本 在线咨询
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C12562 纳米膜厚测量仪系列
特性
可测量10nm薄膜
缩短测量周期（频率高达100Hz）
增强型外部触发（适合高速测量）
涵盖宽波长范围（400 nm到1100 nm）
软件增加了简化测量功能
可进行双面分析
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n，k）
可外部控制
参数
| 型号 | C12562-02 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 10 nm to 100 μm*1 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | 卤素灯 |
| 测量波长 | 400 nm to 1100 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距离 | 10 mm*3 |
| 可测层数 | *多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析，光学常数分析 |
| 测量时间 | 3 ms/点*5 |
| 光纤接口形状 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C， Ethernet |
| 电源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 80W |
*1：以 SiO2折射率1.5来转换
*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
