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产地：日本 在线咨询
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C11295 多点纳米膜厚测量仪
特性
多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n，k）
可外部控制
参数
| 型号 | C11295-XX*1 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 20 nm to 100 μm*2 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*3 *4 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*4 *5 |
| 光源 | 氙灯 |
| 测量波长 | 320 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距离 | 10 mm*4 |
| 可测层数 | *多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析 |
| 测量时间 | 19 ms/点*7 |
| 光纤接口形状 | SMA |
| 测量点数 | 2~15 |
| 外部控制功能 | Ethernet |
| 接口 | USB 2.0（主单元与电脑接口） RS-232C（光源与电脑接口） |
| 电源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 约330W（2通道）~450W（15通道） |
*1：-XX，表示测点数
*2：以 SiO2折射率1.5来转换
*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*6：卤素灯型为C11295-XXH
*7：连续数据采集时间不包括分析时间
