• 非接触式超小设计，监测高功率射频电源的电流及电压传输
• 方便替换传统的光谱仪，准确探测刻蚀工艺的终点
• 监测腔体是否刻蚀干净及过度刻蚀，缩短刻蚀时间和降低气体成本，提高生产机台使用率
• 高速采样频率，可达2万赫兹

应用：

• 用于半导体，平板显示器及太阳能等行业PVD，CVD及刻蚀腔体工艺等离子体放弧探测及刻蚀终点探测（Endpoint）。