日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需**300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。

• 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

• 0.4nm / 30kV（SE）

• 1.2nm / 1kV（SE）

• 0.34nm / 30kV（STEM）

• 用改良的高真空性能和****的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

• 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。