香港电子器材有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:美国
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  • 详细介绍:


    KMPR为负性光刻胶,用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案,它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked之前,KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。

    KMPR 1000系列的特性

    1)临时或**的应用程序

    2)膜厚:2-75 um

    3)兼容标准水性显影剂

    4)高宽比成像和垂直侧壁,深宽比:>5:1

    5)单一旋途可达100微米

    6)减少开裂

    7)优异的金属粘附性

    8)优异的电镀膜液稳定性

    相关溶液:

    显影液:SU-8 Developer

    去胶液:Remover PG

    增附剂:OmniCoat

    一般储存温度:

    -10°C