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产地:美国 在线咨询
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KMPR为负性光刻胶,用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案,它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked之前,KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。
KMPR 1000系列的特性
1)临时或**的应用程序
2)膜厚:2-75 um
3)兼容标准水性显影剂
4)高宽比成像和垂直侧壁,深宽比:>5:1
5)单一旋途可达100微米
6)减少开裂
7)优异的金属粘附性
8)优异的电镀膜液稳定性
相关溶液:
显影液:SU-8 Developer
去胶液:Remover PG
增附剂:OmniCoat
一般储存温度:
-10°C