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产地：美国 在线咨询
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MProbe MSP
显微薄膜测量仪
MProbe让你成为测量专家
大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量：氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si， aSi，polySi)、半导体化合物(AlGaAs， InGaAs， CdTe，CIGS)、硬涂层(SiC， DLC)， 聚合物涂料 (Paralene，PMMA，聚酰胺)，薄金属薄膜等。
厚度范围: 1 nm - 1 mm
波长范围: 200 nm -1700 nm
光斑尺寸:50 um -4 um
在薄膜太阳能电池中的应用: aSi， TCO， CIGS， CdS， CdTe-全太阳能堆栈测量LCD， FPD应用: ITO， 细胞间隙，聚酰胺。光学涂层: 介质滤波器，硬涂层，防反射涂层半导体和电解质: 氧化物，氮化物， OLED堆
实时测量和分析。各种多层次的， 薄的，厚的，独立的和不均匀的层 。
丰富的材料库 (500多种材料) – 新材料容易增添。支持参数化材料:Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA 等
使用灵活: 用TCP接口能容易的和外部系统连接。
测量参数: 厚度、光学常数、表面粗糙度
界面友好强大: 一键式测量和分析。强大的工具:仿真和灵敏度分析，背景和缩放修正，连接层和材料，多样品测量、动态测量和生产批量处理。.
氧化物(100 nm)测量，光斑尺寸40 um 波长范围:200 nm-1000 nm
MProbeUVVisNIR-MSP system
精度 | <0.01nm或0.01% |
精确度 | <0.2%或1 nm |
稳定性 | <0.02nm或0.03% |
光斑尺寸 | 50 μm-4 μm |
样本大小 | 从100 mm到200mm x 200mm |
物镜 | 10x，20x，50x (Vis)， 8x(UV-NIR). 等焦面95，长WD物镜 |
基本选项/参数
选项 | 产品描述 | 评析 |
-MXY[6 or 8] | 电动平台为6” x6” (150 mm)或8”x8” (200 mm)。包含控制器和支持映射软件。 步长0.5 mm，重复性1 um。 | 8”x8” 包含手工阶段作为所有模型的标准 |
-TOM | 透光率测量配置。包括:玻璃插入的阶 段，光源/电容器，光纤 | 适用于Vis和IR |
-TOSwitch | 使用相同的光谱通道结合了反射和透射系数测量 | 需要-TOM.详情参考单独小册 |
-APO100 | APO 100X 物镜（可见物），95 mm 的等焦面，R=0.7 μm | 10x，20x，50x and 8x UV-NIR 都包含在标准里 |
-CCD | 相机目镜2 MP | 其他的相机:UV， Vis， IR 均可用 |
型号 | 波长范围 | 光谱仪探测器/检测器/光源 | 厚度范围* |
VIS-MSP | 400-1100nm | 分光仪 F4/Si 3600像素点/钨-卤素光源 | 15nm-20 μm (可多达50 μm) |
UVVisSR-MSP | 200-1000nm | 分光仪 F4/ Si CCD 3600像素点/氘-钨卤组合式光源 | 1nm-20μm (可多达50 μm) |
HRVIS-MSP | 700-1000nm | HR分光仪F4/Si 3600 像素点/钨-卤素光源 | 1μm-400 μm |
NIR-MSP | 900-1700nm | 传输光谱仪(TVG) F2/512 InGaAs/钨-卤素光源 | 100nm-200 μm |
VISNIR-MSP | 400-1700nm | 分光仪 F4 Si CCD 3600 像素点(Vis channel)；传输光谱仪(TVG)F2/512 InGaAs PDA( NIR channel) 氘-钨卤组合式光源 | 15nm-200 μm |
UVVISNIR- MSP | 200-1700nm | 分光仪 F4 Si CCD 3600 像素点(Vis channel)；传输(TVG)F2/512 InGaA(NIR channel) 氘-钨卤组合式光源 | 1nm-300 μm |
XT-MSP | 1590nm-1650nm | 传输光谱仪 (TVG) F2/512 InGaAs/钨 -卤素光源 | 10μm-1mm |
* T， n & k 测量的厚度范围为25nm – 5um
其他配置也是可以做到，欢迎原始设备制造商咨询和定制开发项目。
对所有系统中的配件有一年的质量保证。
