参考报价:电议 型号:
产地:美国 在线咨询
|
美国PE公司1980年就开始致力于电子行业使用的等离子设备研发及相关服务, 至今已成为全美***的等离子系统解决方案专业供应商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列,大气压系列, PCB专用系列, Roll-to-Roll系列的发展历史已经超过了30年, 广泛应用于全球各大小型生产及研发实验室, 全球超过8000套用户。
知名客户如美国宇航局NASA, 波音Boeing, 霍尼韦尔Honeywell, 摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer, 军用飞机领军企业洛克希德马丁Lockheed-Martin, 及全美各大名校及科研院所如哈佛大学, 麻省理工, 莱斯大学, 橡树岭国家实验室等等。
美国PE拥有等离子技术领域里*顶尖的技术, 凭借着多年研发和突破性创新, 先已拥有了多项技术**, 如**的温控技术和**的静电屏蔽技术, 使其等离子设备能提供****的处理效率, 均匀性和可靠性, 其刻蚀清洗效率是市面上其他等离子设备的三倍以上。
应用领域如下:
目前设备广泛应用于:等离子清洗、刻蚀、改性、灰化、涂镀和反应离子刻蚀,在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域有广泛应用。
RIE系统刻蚀效果取决于气体的流量,压力和功率设置等方面。
我们设计和制造的反应性离子蚀刻系统,可以满足客户的任何需要,且可以根据客户的要求定制适合的等离子系统。我们的等离子处理系统,以提供快速,高品质的蚀刻,低损伤,提供****的均匀性而著称。
我们的等离子蚀刻机是理想的干蚀刻,目前正在采用的蚀刻:
半导体/集成电路
氮化镓(甘)
氮化铝镓/氮化镓(AlGaN/GaN)
砷化镓/砷化铝镓(一般反避税条款/ algaar)
砷化镓(GaAs)
磷化铟、铟铝砷/铟镓砷化物(InP InGaAs/InAlAs)
硅(硅)
硅锗(SiGe)
氮化硅陶瓷(Si3N4)
硅的溴化氢(sihbr)
硒化锌(ZnSe)
金属
铝(铝)
铬(铬)
铂(铂)
钼(钼)
铌(铌)
钽(钽)
钛(Ti)
钨(钨)
电介质
铟锡氧化物(ITO)
锆钛酸铅(PZT)
碳化硅(碳化硅)
塑料/聚合物
聚四氟乙烯(PTFE)
聚甲醛(POM)
聚苯并咪唑(PBI)
聚醚醚酮(PEEK)
聚酰亚胺(聚酰亚胺)
聚酰胺(尼龙)
全氟烷氧基烷(PFA)
聚全氟乙丙烯(FEP)
聚烯烃
聚酯
失效分析