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参考报价：电议 型号：
产地：日本 在线咨询
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产品特点：
? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。
? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）
? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）
? 对应显微镜下的微距测量口径。
产品规格：
标准型 | 厚膜专用型 | ||
| 膜存测量范围 | 1nm~40μm | 0.8μm~250μm | |
波长测量范围 | 190~1100nm | 750~850nm | |
| 感光元件 | PDA 512ch（电子制冷） | CCD 512ch（电子制冷） | PDA 512ch（电子制冷） |
| 光源规格 | D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光） | 12（可见光） | |
| 电源规格 | AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格） | ||
| 尺寸 | 4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分） | ||
| 重量 | 约96kg（自动样品台规格之主体部分） | ||
应用范围：
FPD
-LCD、TFT、OLED（有机EL）
半导体、复合半导体
-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料
资料储存
-DVD、磁头薄膜、磁性材料
光学材料
-滤光片、抗反射膜
平面显示器
-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED
薄膜
-AR膜
其他
-建筑用材料
测量范围：
玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析
