 |
参考报价：电议 型号：
产地：日本 在线咨询
|
产品特点：
? 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。
? 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。
? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。
? 可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。
? 非线性*小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格：
| 膜厚测量范围 | 0.1nm~ |
| 波长测量范围 | 250~800nm（可选择350～1000nm） |
| 感光元件 | 光电二极管阵列512ch（电子制冷） |
| 入射/反射角度范围 | 45～90o |
| 电源规格 | AC1500VA（全自动型) |
| 尺寸 | 1300（H）×900（D）×1750（W）mm |
| 重量 | 约350kg（全自动型） |
应用范围：
■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例：
非线性*小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认
