顶尖科仪(中国)股份有限公司
高级会员第2年 参观人数:94908
  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:美国
    在线咨询
  • 详细介绍:


    PlasCalc等离子体监控系统

    PlasCalc等离子体监控系统通过测量等离子体反应腔的发射光谱,实时监测反应腔内的等离子体组分和密度、等离子体温度、电子密度等参数。由等离子体发射光谱的强度值可计算得出等离子组分、颗粒密度及电子密度;由同一电子的能量吸收谱线同另外谱线的对比可计算得出电子温度。测量输出结果,可反馈控制等离子体的发生,从而获得**的反应流程和效果。

    PlasCalc等离子体监控系统主要包括:高性能线阵CCD光谱仪、传输光纤、接收透镜、过程监控装置及测量分析软件。

    PlasCalc应用于测量等离子体镀膜沉积情况,监测等离子浊刻,检查表面清洁处理,分析等离子反应腔控制情况,监测异常污染排放现象,磁控溅射、光学镀膜、终点测量、开发等离子过程的监测和控制优化。

    PlasCalc等离子体监控系统基本性能:

    测量范围:测量发射光谱获得等离子体组分/密度/电子温度等参数

    光谱范围:200-1100nm

    探测器:2048像素CCD

    光谱分辨率:1nm

    A/D转换:14位

    通讯方式:USB1.1

    供电方式:直流12V;1.25A

    应用场合:等离子体镀膜沉积/等离子体监测/安全监控/反映过程优化/终点测量

    ◆PlasCalc等离子体监控系统应用软件

    -实时在线监测等离子过程的发射光谱

    -监测和控制的双屏幕技术

    -8数字量输入/输出;4模拟量输出

    -终点、启动、停止及限位的信息音提示

    ◆备选附件

    -SpecLine Software:峰值查找和谱线辨别

    -UV & UV-VIS & NIR 传输光纤

    -COL-UV-6 & COL-UV-30准值透镜

    -VFT真空接管

    -PVFT-UVX & PVFT-UVX真空法兰接头