日立高新离子研磨装置IM4000 产品中心

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产品详情

详细介绍：

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。

平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（**加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。

特点

混合模式：两种研磨配置

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察

平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性

高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(**加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型

规格

项目	描述
项目	断面加工台	平面研磨台
气源	氩气(Ar)
加速电压	0-6Kv
**研磨速率﹡1﹡2（硅材质）	约300μm/h﹡1﹡2	约20μm/h﹡3（点）约2μm/h﹡?（面）
**样品尺寸	20（W）×12(D)×7(H)mm	Φ50×25(H)mm
样品移动范围	X±7mm，Y0－＋3mm	X0－＋5mm
旋转角度	-	1r/m，25r/m
摆动角度	±15°，±30°，±40°	±60°，±90°
倾斜	-	0-90°
气体流量控制系统	流量调节器
排气系统	涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时，135L/min，60Hz时，162L/min)
仪器外观尺寸	616（W）×705(D)×312(H)mm
仪器重量	主机48kg+机械泵28Kg
可选附件	光学显微镜（用于观测研磨中的样品）
﹡1：此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的**深度值 ﹡2：此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值 ﹡3：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm