北京大方科技有限责任公司
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    型号:
    产地:北京
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  • 详细介绍:


    近位抽取激光氨逃逸在线分析系统测量单元主要部分安装在烟道壁外,抽取的气体直接进入气室,不需要经过伴热管线,而仪表系统通过光缆控制气室,可放置在室内,避免了恶劣的外部环境。

    原位式和抽取式测量的**结合

    一、产品主要特点

    1.采用先进的可调谐半导体激光光谱技术,不受背景气体、粉尘等因素干扰,实现快速、准确测量;

    2.抽取气体直接进入气室,不需要经过伴热管线,烟气接触的流路全程高温伴热250℃以上无冷点,避免氨气吸附和损失,保证样气真实性;

    3.自动反吹控制,反吹间隔和反吹时长根据工况设置,有效避免滤芯堵塞;

    4.内置标准气体参比模块,并且进行动态的补偿,实时锁住气体吸收谱线,不受温度、压力以及环境变化的影响,不存在漂移现象;

    5.国内**实现多次反射技术,光程可达30米,极大地提高测量精度和检测下限;

    6.滤芯采用覆膜工艺制造,后置安装,无需专业工具拆卸,更换和清理极其方便

    7.仪表和测量单元分离,仪表可放置在室内,避免恶劣的外部环境;

    8.大方科技特有的样气室设计,**技术,包含维护窗口,可以在不影响光路的情况下,对污染的光学器件进行清洁,让维护更加快速方便。

    二、典型应用:

    电厂、水泥厂、玻璃厂、陶瓷厂、工业锅炉等企业脱硝氨逃逸监测;

    炼焦企业脱硝氨逃逸监测;

    化工厂脱硝氨逃逸监测;

    氨法脱硫氨逃逸监测。