美国PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪， 采用低压清洗技术，可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。

本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。(详情请咨询PIE中国总代理南京覃思科技有限公司)

一. 特有功能

1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。*低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快，更均匀，对电子枪和分子泵更安全；

2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；

3. 带气压计的自动气体流量控制；

4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；

5. 自动射频匹配实时保证**化射频耦合，即使用户调节清洗配方；

6. **保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；

7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；

8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；

9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；

10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。

二. 技术指标

1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰; 提供转接法兰；

2. 标配等离子强度传感器；

3. 等离子源*低点火起辉气压：<0.1毫托；

4. 等离子源**工作气压：>1.0 托；

5. 漏气率：<0.005sccm；

6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；

7. 具有射频自动匹配功能

8. 电源和功率：110V/220V， 50/60 Hz， 200 瓦