沈阳科晶自动化设备有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:辽宁
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  • 详细介绍:


    VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

    名称

    VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

    产品型号

    VTC-600-3HD

    安装条件

    本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

    2、电:AC220V50Hz,必须有良好接地

    3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套

    接头)及减压阀

    4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm承重200kg以上

    5、通风装置:需要

    主要特点

    1配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。

    2可制备多种薄膜,应用广泛。

    3体积小,操作简便。

    4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

    5可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

    技术参数

    1、电源电压:220V 50Hz

    2、总功率:2.5KW

    3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar

    4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

    5、靶枪数量:3

    6、靶枪冷却方式:水冷

    7靶材尺寸:?2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

    8、直流溅射功率:500W(可选)

    9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

    10、载样台:?140mm

    11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

    12、保护气体:ArN2等惰性气体

    13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1流量为100 SCCM1流量为200 SCCM

    产品规格

    主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

    标准配件

    1

    直流电源控制系统

    2

    2

    射频电源控制系统

    1

    3

    膜厚监测仪系统

    1

    4

    分子泵(德国进口)

    1

    5

    冷水机

    1

    6

    冷却水管(?6mm

    4

    可选配件

    金、铟、银、铂等各种靶材

    掩膜版

    振动样品台