沈阳科晶自动化设备有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:辽宁
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  • 详细介绍:


    产品型号

    小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW

    产品特点

    1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆

    2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料

    技术参数

    1、输入电压:220 VAC 50/60Hz

    2、电源输出:1600 VDC 250 W

    3、**电流:150 mA .

    4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头

    5、振动样品台:

    样品台振动频率可调节:6-33Hz

    样品台直径为50mm

    建议样品量: < 500 mg

    建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

    石英腔体尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

    6、真空度:

    ①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

    ② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶**真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)

    7、CE认证

    产品规格

    外形尺寸:长460×宽330×高810mm 净重:20Kg

    注意事项

    警告:

    1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套

    2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理

    注意:粉末样品必须干燥和分散