新耕(上海)贸易有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:美国
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  • 详细介绍:


    仪器简介:

    应用:

    ◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺。

    技术参数:

    SKY公司的C1 PECVD设备是买断Novellus C1型号的技术授权在国内生产的PECVD设备,所有性能指标均和美国原产地Novellus C1相同,配件国产率超过70%。 SKY公司依托Novellus公司的技术授权,拥有本地及回国人员组成的强大技术团队,目前产品主要应用于4~6”主流硅半导体、化合物半导体及MEMS领域。

    主要特点:

    ◆ 高度稳定的均匀性;

    ◆ 高度稳定的折射率;

    ◆ Novellus技术授权;

    ◆ 零部件国产化及稳定的零部件供应;

    ◆ 菜单式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺;

    ◆ 真空室(沉积室)等离子体自动刻蚀清洗;

    ◆ 双频RF/LF电源发生器;

    ◆ 阻抗匹配器自动调节;

    ◆ 单腔(七片)、连续(七十五片)自动转换沉积。