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产地:德国 在线咨询
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德国Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager
对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用,我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束光刻系统。
Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构。
系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作,先进的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致。
系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标,可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩,即使在稍差的实验室环境下,仍然能确保系统具有非常好的热稳定性,提高系统对外界环境的容忍度。
00001. 从*初设计到样品制备完成,实现高速样品加工,提高产量
00002. 智能设计:设备占地面积小,且集成环境屏蔽罩
00003. 创新的、未来安全型系统架构
00004. 专业的电子束曝光系统,可实现每小时1cm2的高速曝光,高性价比
Raith新推出的eWrite技术结合了专业电子束光刻的光学系统和创新的图形发生器设计,该技术适用于研发及批量生产的所有工作。
· HSQ胶上制作亚7nm线条
· SU8胶上制作 1x1 cm2 菲涅尔透镜,曝光时间为53分钟,图为菲涅尔透镜中心区域
· PMMA双层胶上制作150nm T型栅结构
· ZEP520胶上制作 1x1 cm2光栅结构,曝光时间小于2小时
· 高速度模式(40nA束电流下曝光160um大结构)和高分辨模式(0.4nA束电流下曝光10nm细小结构)自动切换
· ZEP520胶上制作光子晶体波导结构
主要应用: · 高速直写 · 衍射光学元件 · 防伪元件 · 批量加工化合物半导体器件 样品台: · 6“ 移动范围 · Z方向移动范围大 | 电子枪技术: · eWrite · 电子 · 50 kV 独特直写模式: · traxx 长线条无写场拼接曝光模式 · periodixx周期结构无写场拼接曝光模式 |