德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪

型号：Zeiss Sigma SEM

主要功能：

·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（*小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域。

技术指标：

·肖特基热场发射电子源

·加速电压：100V～30kV

·放大倍率：12X～1000，000X

·SEM分辨率：1nm@30kV，1.5nm (15kV)，2.8nm（1kV）

·电子束曝光：10nm（20kV）

·场拼接精度：<100nm

·扫描频率：6MHz

·图形格式：GDSII