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原位程序升温原位反应系统是在标准样品台基础上搭建四电极反馈控温的加热模块,在扫描电镜中实
现样品的气氛、液氛环境及固体样品高分辨成像和精准、均匀、安全控温,温度精度优于 ± 0.1K,**温度1000℃。通过精确的热场模拟及独特的芯片设计,实现无漂移加热过程,可在加热升温过程中实现实时观测成像。样品台上的原位芯片采用特殊的组装和密封方式与电镜的真空阻隔,避免电镜受到污染和损坏。
系统规格
温度范围 | RT~1000℃ |
适用样品 | 静态&流体气液、固体 |
窗口膜厚 | 25nm, 50nm |
液体池厚度 | 200~2000nm |
芯片管路 | 一进一出 |
温度精度 | ±0.1K |
加热均匀性 | ≥99.5% |
加热电极数 | 4 |
EDS/WDS | √ |
EBSD/SE | √ |
漂移率 | <0.5nm/min |
适用电镜 | ZEISS, FEI, JEOL, Hitachi, Others |
独特优势
超高分辨率
a.超薄氮化硅膜(25-50nm)
b.分辨率优于10nm
精确度、灵敏度高
a.四电极形成反馈控制系统,控温准
b.观测区域全覆盖,升温快且均匀
稳定性好
a.科学设计,漂移率*小化
b.样品台与芯片匹配良好,芯片不漂移
应用领域
气体环境加热
热催化
水汽重整
石油裂解
煤制油
合成氨
液体环境加热
纳米催化剂合成
温致反应过程
溶剂热过程
固体直接加热
EBSD原位分析
金属材料
石油地质岩石矿物
化工高分子材料
新能源电池材料
半导体
售后服务
1、设备运抵现场,我方技术人员同时到达,一同开箱检验,并提供有关设备的搬运、仓储、注意事项的技术咨询服务;
2、设备进行安装调试阶段,我方技术人员到现场协助安装调试,及时处理安装过程中所遇到的问题,确保系统成功使用;
3、合同要求提供产品使用、维护说明书,设备的原理图、接线图、施工图等技术资料及备品。建立售后跟踪,及时了解设备运行情况、接受用户的报修、投诉、以便及时安排技术人员解答或赶赴现场;
4、加强与用户的联系,重视用户的意见,制定各用户的质量跟踪信息卡制度,健全用户档案,并且对产品进行回访,了解设备的运行情况,以确保用户长期安全可靠地使用我公司的设备。
5、公司储存充足的零配件,随时满足客户单位对备品备件的要求。