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参考报价：电议 型号：
产地：四川 在线咨询
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URE-2000系列紫外单面光刻机
.URE-2000/A8紫外光刻机
主要产品技术特征及指标：
•曝光面积：200mmx200mm ;
•分辨力：2um ;
•对准精度：2um ;
•掩模尺寸:5英寸、礫寸、9英寸;
•样片尺寸:碟寸、礫寸、8英寸;
• wafer chuc棲面：防止光反射涂层;
•掩模样片整体运动范围:X : 10mm;Y:10mm ;
•掩模相对于样片运动行程:X: 5mm; Y: 5mm; : 6。；
•汞灯功率：100QW （直流）;
•曝光能*密度：2 15mW/cm2 ;
•光源能■控制:光源恒功率（每日测嵐光强，微调recipe（参考356nm波长）；
•曝光峰值波长365 nm ;
•曝光方式:定时（倒计时方式0.1s—9999.9s）;
•光刻版夹具兼容性
•具有盲曝粗对准功能.
产品型号 | 曝光面积 | 光刻分辨力 | 汞灯功率 | 照明不均匀性 |
URE-2000B | lOOmmXIOOmm | 0.8 pm （胶厚2 pm的正胶） | 1000W13iE （德国欧司朗） 刼础 | 2.5% （＜D100mm 范围 ） |
URE-2000/35 | lOOmmXIOOmm | 翎力:1 pm （胶厚2 pm的正胶） | 350WM流 （徳国欧司朗） | 3% （饥00mm范围 |
URE-2000/35A | 150mmX150mm | 1-1.2 pm （胶厚2卩m的正胶） | 350W进口颤 高 陵国欧司朗） | 6% （0150mm 范围） |
URE-2000/30 | lOOmmxlOOmm (磔寸） | 潮力:￡1 pm （瞄 1.5|jm 的 IEK） | 談麟电源 | （35OW1：^CD 3% （＜P100mm 范围） |
URE-2000/25 | lOOmmXIOOmm | 彻力:1.2 pm （胶厚2 pm的正胶） | 赦嶙 电源350W 直流，进口 | 3% （＜P100mm 范围） |
URE-2000/17 （台式） | lOOmmXIOOmm | 彻力:1.5 pm （胶厚2呻的正胶） | 200瀕口颤 （德国欧司朗） | 5% （0100mm 范围） |
URE?2000系列双面光刻机
URE-2000S/A8型奴面光刻机
主要产品技术特征及指标:
•采用**技术一积木错位蝇眼透镜消衍射技术和线条陡直增强技术，曝光图形质量好，光刻分辩力高.
•采用**的CCD囲像底面对准，单曝光头正面曝光实现双面对准功能.
•采用新颖的高精度，多自由度掩模一样片精密对准工件台结梅掩模与样片对准过程直观，套刻对准速度快，精度高样片的采
用推拉茹准平板，真空吸附式，操作方便。
•采用1000W长寿命型汞灯光源，曝光能量高，聚光角度小，光源稳定，持久。
•支持真空接触曝光，硬接触曝光，压力接触曝光，接近式曝光四种曝光功能。
•配备循环水冷却系统，照明面温度恒定。
•具有纳米压印接口功能.
•曝光面积:8英寸；对准精度：M±2 nm （双面，片厚0.8mm） /0.8皿（单面）.
•掩模尺寸：礫寸、5英寸' 7英寸、9英寸.
•光刻分辨力:1pm.
•曝光方式:定时（倒计时方式0.1S-9999.9S任意设定）和定剂量.
•**胶厚：500 pm （SU8胶，用户提供检测条件）?
•汞灯功率:1000W （直流，进口直流高压汞灯德国欧司朗）.
•照明不均匀性：5% （ 0200mm范围）.
产品型号 | 曝光面积 | 光刻分辨力 | 汞灯功率 | 照明不均匀性 |
URE-2000S/A | 6詞 | 1pm | looovmnw^Hj^r （德国欧司朗） | 2% （OlOOmm 范围） 3% （＜P150mm 范围 |
URE-2000S/B | 篠寸 | 1pm | looovmnMMj^r （德国欧司朗） | 2% （（plOOmm 范围） |
URE-2000S/25A | l|jm | 350W进口直流高压汞灯 （德国欧司朗） | 3% （（PlOOmm 范围） 5% （0150 mm范围） | |
URE-2000S/25B | 磔寸 | 1pm | 350W进口直流高压汞灯 （德国欧司朗） | 3% （（PlOOmm 范围） |
URE-2000S/35L （A） | 6知 | 1pm | 紫外LED进口灯源 | 1.5% （（PlOOmm 范围） 3% （0150 mm范围） |
URE-2000S/35L （B） | 僥寸 | 1pm | 紫外LED进口灯源 | 1.5% （0100mm 范围） |
URE-2000S/25S | 4钢6知 | 1pm | 350瀕口直流高压汞灯 （德国瞄朗） | 3% （0100mm 范围） 5% （（P150 mm范围） |
投影光刻机
.TYG-2000S系列投影光刻机
主要产品技术特粧及指标：
•软件界面友好、科学、直观.可对当前曝光区域，待曝光区域，曝光参数等信息提供实时的图形化• •通过选
配背面对准模块，可实现双面对准曝光，将该机型升级为具有双面对准曝光功能步进投影光刻机。 •配置焦面检
测自动控制系统，焦面位置设定后，曝光过程中自动实时完成焦面调整。
•采用冷光膜与i线照明系统，曝光波长为365nm ，曝光面为冷光，曝光图形方、陡、直.
•支持真空接触曝光，硬接触曝光，压力接触曝光，接近式曝光四种曝光功能.
•采用夸利技术-积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明不均匀优于2%。
•采用先进的离轴对准系统，对准过程自动完成，对各种不同大小的基片，
（含碎片）对准十分适用.
•对准精度：±0.5卩m.
•照明均匀性：2%。
•曝光面积：3mmx3 mm ~ 50mmx50mm.
•调焦台运动灵敏度：1 jim.
•掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸.
•调焦台运动行程：5mm.
•光刻分辨力：。.3卩m ~ 5 ym.
•检焦：CCD检测，检测精度0.5 pm.
.光源：350施形汞灯，
•汞灯功率：1000W （直流，进口直流高圧汞灯德国欧司朗）.
产品型号 | 曝光面积 | 光刻分辨力 | 汞灯功率 | 照明不均匀性 |
TYG-2000/A | 0.8pm - 1pm | 350W | 2% | |
TYG-2000/T1 | 0mm x 10mm | 1pm | 350W进口直流高压汞灯 (德国欧司郎) | +2% |
TYG-2000/T2 | 20mmx20mm | 2pm | 350W进口颤mMT （德国欧司朗） | ±2% |
TYG-2OOO/T3 | 50mm x 50mm | 5pm | 350味晰汞灯 （曝光谱线：i线） | ±2% |
DS-2000系列无掩模光刻机
产品型号 | 技术特征 | 技术参数 |
DS-2000/14G 型 | 采用DMD作为数字掩模，像素数 1024x768或1920x1080或 25601600三 种选配. 采用缩小投影光刻物镜成像，分辨力 lum0 采用**技术一一积木错位蝇眼透镜实 现 均明。 采用进口精密光栅、进口电机、进口导 轨、 进口丝杠实现精确工件定位和曝光 拼接， 可适应lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 检焦系统实现整场调平、自动 逐场调焦或 自动选场调焦曝光。 具备对准功能。 | 光源：350W球形汞灯（曝光谱线：i线）或紫 外 LED ;照明不均匀性：2% ;物镜倍率： 7.6倍（或 14倍与选择的DMD像素尺寸有 关）；曝光场面 积：lmmx0.7mm （或 1.9mmxl.8mm ，或 2.5mmxl.6mm ，与选 择的DMD像素数有关）； 光刻分辨力： 1 p m ; 工件台运动范围： X : 100mm、 Y : 100mm ;工件台运动定位精度：0. 5pm ;调 焦台运动灵敏度：lpm ;对准精度：2卩 m ;调 焦台运动行程：6mm ;检焦：CCD检测， 检 测精度2微米；转动台行程：±6。以上；直写 速 度：40mm2/min ;基片尺寸；外径: 1mm— 100mm ，厚度：0.1mm--5mm。 |
DS?2000/14K型 | 采用DMD作为数字掩模，像素数 1024x768. 采用14倍缩小投影光刻物镜成像。 采用专 利技术一一积木错位蝇眼透镜实 现均明。 具备对准功能。 采用进口精密光栅、进口电机、进口导 轨、 进口丝杠实现精确工件定位和曝光 拼接， 可适应lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 检焦系统实现整场调平、自动 逐场调焦或 自动选场调焦曝光。 | 光源：350W球形汞灯（曝光谱线：i线）或紫 外 LED ;照明不均匀性：2% ;物镜倍率：14 倍；曝 光场面积：lmmx0.75mm ;光刻分辨 力：1 pm ; 工件台运动范围：X : 100mm、 Y :100mm;工件 台运动定位精度：0.65卩 m ;调焦台运动灵敏度： lum ; 对准精度：2pm ;调焦台运动行程：6mm ; 检焦： CCD检测，检测精度2微米；转动台行 程：±6°以 上；基片尺寸；外径： 1mm—100mm ，厚度： 0.1mm--5mm。 |
